「令和元年特許法等の一部を改正する法律」が令和2年4月1日から施行されます。
これにより、意匠権の存続期間の変更や、保護対象の拡充、関連意匠制度の見直しなど、より広く権利を保護できるようになります。
意匠法の一部改正
(1)保護対象の拡充
●建築物の外観・内装のデザインや物品に記録・表示されていない画像を新たに意匠法の保護対象とする。
(2)関連意匠制度の見直し
●関連意匠の出願可能な期間を基礎意匠の出願日から10年以内までに延長する。
●関連意匠にのみ類似する意匠の登録を認める。
(3)意匠権の存続期間の変更
●「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更する。
特許法の一部改正
査証制度の創設
●中立な技術専門家が現地調査を行う制度(査証)の創設
商標法の一部改正
公益著名商標に係る商標権について
●国、地方公共団体又は大学といった公益団体等を表示する著名な商標(公益著名商標)に係る商標権について
通常使用権の許諾が可能となる。
立体商標制度(店舗の外観・内装)の保護の見直し
●商標審査基準の改訂により、店舗の外観・内装に関する立体商標の特定方法として、実線及び破線による商標
見本の描画及びその旨の願書記載を認める。